UV双面曝光机在PCB和FPC制造领域展现显著优势，其核心价值在于提升生产精度与效率。设备采用高功率365nm UV-LED光源系统，光强均匀性达±3%，配合双面对位CCD视觉系统实现±5μm对位精度，大幅提升高阶HDI板的线路解析度。创新的双面同步曝光技术可节省50%工序时间，搭配智能能量控制系统确保曝光剂量偏差＜3%，有效解决传统单面曝光导致的基板翘曲问题。模块化光学设计支持10-100mJ/cm²宽范围能量调节，兼容干膜/湿膜等多种光刻胶工艺。设备集成环境温湿度补偿功能，通过实时监测自动调整曝光参数，保障批量生产稳定性。独有的除尘机构结合离子风刀设计，可将板面颗粒物控制在Class 1000级以下。智能化操作界面支持CAD文件直读和配方记忆功能，换型时间缩短至3分钟内，配合MES系统可实现工艺参数全程追溯，满足汽车电子对过程可靠性的严苛要求。